金属与合金材料
光洋深耕于储存媒体产业用磁性材料、相变化材料，以及电子半导体产业用电阻材料之相关合金材料以及高纯合金之研发，具有深厚合金研发能力与制造技术，在纯度控制上可达到半导体规格等级。
- 磁性材料广泛用于磁记录媒体、磁性感测组件、磁性记录头、磁性内存(STT-MRAM)等领域。
- 光洋在磁性材料合金研发近20年，应用以铂、钌为主之多达32种元素，已设计开发之合金超过3000种，合金组成可高达7种元素以上之合金系统。
- 在材料特性上着重合金之细晶微结构，可制作出高磁通量、高机械强度与溅镀特性优异之溅镀靶材。
- 如多元软磁合金，可藉由微结构设计达到高强度、高功率溅镀之制程需求。
- 如特殊靶面处理技术，可降低客户初期溅镀之微粒子污染。
- 半导体制程节点持续微缩，对于制程材料的纯度、细致度与质量一致性等要求越来越高，对于合金材料的使用的越来越多。
- 光洋发展精炼纯化、熔炼铸造、粉末冶金与塑性成型技术，能提供高阶半导体晶圆制造时所需的合金材料，符合超高纯度、超洁净度的要求，在材料显微组织的控制上可达到细致的晶粒分布与织构，此外在绿色制造的趋势下，光洋也提供溅镀靶材再生循环的技术与服务模式。
- 相变化材料广泛用于光记录与相变化内存(PCRAM)等领域。
- 光洋相变化材料应用元素达23种元素，包含记录层常使用硫属元素为主要成分如Te、Sb，开发出数百种合金，可设计制造5种以上元素之多元合金。
- 光洋善于合金配方调整材料之结晶或非晶化温度与相变动力行为，可提供溅镀靶材客制化开发需求。
- 密切配合客户成分需求，客制化相关相变化合金材料。
- 电阻材料可应用于一般电阻与高电阻领域，包含一般电阻常用NiCr、CuNi合金材料，和高电阻CrSi合金材料。
- 光洋在电阻材料之添加元素经验达20种以上，制作的合金具有优良的热稳定性。
- 密切配合客户成分需求，客制化相关电阻合金材料。
