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薄膜材料
濺鍍靶材
- 光洋使用超過50種化學元素，具備3000種以上合金以及30種以上金屬氧化物濺鍍靶材產品製作經驗。
- 可提供儲存媒體產業、半導體產業、顯示器產業等領域之濺鍍靶材。
- 可客製各種規格的需求。
光洋為世界級儲存媒體濺鍍靶材供應商，提供儲存媒體產業各膜層所需的濺鍍靶材產品，持續精進的產品開發能力，協助客戶追求更高的儲存表現。
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磁儲存媒體濺鍍靶材
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光儲存媒體濺鍍靶材
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光洋製作的半導體等級濺鍍靶材，供應半導體晶圓製程、凸塊製程以及封裝製程使用，通過國際大廠驗證，具有高純度、高精細的特性。
| 應用 Application | 產品 Products |
|---|---|
| 互連層 Interconnection layer |
Al, Cu或其合金靶材 Al, Cu or alloy targets |
| 電極/金屬化層 Electrode/Metallization layer |
金、銀、鉑、鈦靶材 Au, Ag, Pt, Ti sputtering targets |
| 阻障層 Barrier layer |
鉭、鈦、鎢鈦靶材 Ta, Ti, WTi sputtering targets |
| 閘電極 Gate Electrode |
鎳鉑合金靶材 NiPt alloy targets |
| 記憶體 Memory |
釕、鈷鐵合金靶材 Ru, CoFe alloy targets |
光洋提供高純度、高密度、大尺寸、高焊合率之平面靶材或旋轉靶材。除了提供ITO、Mo、Al濺鍍靶材產品之外，也有一系列透明導電氧化物 (IXO)產品可符合各種光電特性之應用。
| 應用 Application | 產品 Product |
|---|---|
| 透明導電層 TCO layer |
氧化銦錫、IXO、氧化銦、氧化鋅平面或旋轉靶材 ITO, IXO, In2O3, ZnO planar or rotary sputtering targets |
| 通道層 Channel layer |
氧化銦鎵鋅平面或旋轉靶材 IGZO planar or rotary sputtering targets |
| 反射層 Reflection layer |
銀或其合金靶材 Ag or Ag alloy targets |
| 抗反射層 Anti-reflection layer |
氧化鈮、氧化鈦、氧化鉭、矽靶材 Nb2O5, TiO2, Ta2O5, Si sputtering targets |
| 電極層 Electrode layer |
鋁、銅、鉬、金、銀或其合金靶材 Al, Cu, Mo, Au, Ag or alloy targets |
| 阻障層 Barrier layer |
鉑或其合金靶材 Pt or Pt alloy targets |
| 客製功能層 Customized function layer | 純金屬、合金或金屬氧化物靶材 Pure metal, metal alloy or metal oxide sputtering targets |
光洋具備材料設計以及製程開發能力，可以提供客製化服務以符合客戶的需求。
- 金靶已通過ISO 10993-5細胞毒性之生物相容性認證